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電子束

激光光刻系統納米加工

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聚焦離子束掃描電鏡系統的操作要點及常見問題微觀世界的探索者：雙束電鏡的精密技術感應耦合電漿蝕刻設備的操作原理及優勢顯微鏡有什么用處？原子層蝕刻設備的解決方法關于掃描電鏡的結構組成盡在本篇

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品牌	其他品牌	應用領域	環保,化工,電子/電池

具有分辨率的直接激光刻錄機

PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創建高分辨率結構。這款多功能、低維護的激光刻錄機可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰提供了解決方案。

具有以下功能：

單聚焦光束寫入策略
分辨率低至 0.3 μm
4096級灰度光刻

即使在具有挑戰性的基材上也能進行專有自動對焦
最大 8" x 8" 暴露區域
無縫合曝光

PICOMASTER 直接激光刻錄機為您的微加工需求提供解決方案。

提供 405 和 375 激光源，保證 300 nm 的分辨率，因此 PICOMASTER 直接激光刻錄機可產生市場上最高分辨率。這些無掩模直接激光刻錄機增強了科學和工業目的的創新實力，為光子器件、微電子、MEMS、3D 光刻、光學可變器件 (OVD)、衍射光學元件等領域的研發帶來了機會。

PICOMASTER 是適合您實驗室的工具：

P RECISION：即使對于精細劑量也能提供高精度激光功率控制，即使在具有挑戰性的樣品上也能自動對焦，并且具有對準精度

解決方案：為特征和光柵提供的分辨率，特征周期低至 300 nm 以下

優化：可以通過桌面或獨立系統選擇、適當的激光源波長和寫入模式選擇來針對任何類型的應用進行優化

輪廓分析：提供高達 4096 級的灰度功能，而不影響曝光速度，實現2.5D 抗蝕劑輪廓分析

易于使用：內部設計的對齊工具和強大的用戶界面支持輕松的樣品處理，方便處理最常見的文件格式

降低維護成本：通過免維護運動平臺和長壽命光學模塊（10,000 小時）實現平穩、快速且經濟高效的維護，該模塊易于更換，無需上門服務

特征

解決

< 300 納米

灰度級別

4096

激光源

405 / 37

根據您的需求優化直接激光刻錄機

PICOMASTER 直接激光刻錄機在可配置的平臺上工作，該平臺可以根據您的應用或特定實驗室條件進行優化，以滿足您的需求。PICOMASTER 可以是桌面或獨立系統，可以針對不同類型的抗蝕劑具有不同的激光波長，并且可以為各種應用提供不同的光斑尺寸。如果需要，它可以與環境穩定裝置結合使用。

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激光光刻系統

具有分辨率的直接激光刻錄機

PICOMASTER 是適合您實驗室的工具：

特征

解決

< 300 納米

灰度級別

4096

激光源

405 / 37

根據您的需求優化直接激光刻錄機

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